Poprawili rozdzielczość 100 milionów razy
13 stycznia 2009, 12:21Naukowcy z IBM-a i Center for Probing the Nanoscale na Uniwersytecie Stanforda wykorzystali zmodyfikowany rezonans magnetyczny (MRI) do wykonania zdjęcia o rozdzielczości 100 milionów razy większej, niż można uzyskać za pomocą standardowego MRI. Osiągnięcie uczonych umożliwi obserwacje trójwymiarowych struktur w nanoskali.
Dwa typy tatuażu na jednej mumii
11 października 2010, 10:36W latach 90. na pustyni w Chiribaya Alta na południu Peru znaleziono 1000-letnią mumię czterdziestokilkuletniej kobiety. Paleopatolodzy potwierdzili, że zmagała się z gruźlicą, dzięki czemu wiadomo było na 100%, że choroba ta występowała w Nowym Świecie przed przybyciem osadników z Europy. Teraz okazało się, że koliste tatuaże na ciele zmarłej, w których znaleziono materiał roślinny, wykonano najprawdopodobniej podczas rytuału leczniczego przypominającego akupunkturę.
Nanocząstki w czasie rzeczywistym
15 października 2010, 11:25Ostatnie badania przeprowadzone przez Argonne National Laboratory i Carnegie Institution pozwolą na znaczne udoskonalenie nanomateriałów. To z kolei przyczyni się do powstania lepszych ogniw słonecznych, czujników czy urządzeń do obrazowania medycznego.
Zaobserwowano elektronową "pęsetę"
9 listopada 2011, 17:47Naukowcy od dłuższego już czasu korzystają z optycznych „pęset", które pozwalają im na poruszanie niewielkich cząstek. Ostatnio informowaliśmy, że wykorzystaniem tego typu technologii zainteresowana jest też NASA, gdyż chce za jej pomocą zbierać próbki w kosmosie.
10 nanometrów w zanurzeniu
13 września 2012, 09:44Intel poinformował, że jest w stanie wykorzystać litografię zanurzeniową do produkcji układów scalonych w 10-nanometrowym procesie technologicznym. Wykorzystujące go układy zadebiutują nie wcześniej niż w 2015 roku.
TSMC światowym liderem we wdrażaniu EUV
16 października 2019, 15:13Przed tygodniem TSMC ogłosiło, że wykorzystywana przezeń technologia 7nm plus (N7+) jest pierwszym komercyjnie dostępnym wdrożeniem technologii EUV (litografii w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie). Tym samym tajwański gigant ustawił się w roli światowego lidera EUV. I wielu analityków to potwierdza.
Nie tylko Intel
15 października 2009, 11:04Już nie tylko dane z Intela mówią o wychodzeniu rynku IT z kryzysu. Optymistycznych informacji dostarcza też firma ASML, producent urządzeń do litografii. W trzecim kwartale bieżącego roku holenderskie przedsiębiorstwo sprzedało usługi i urządzenia o łącznej wartości 555 milionów euro.
Prawo Moore'a zagrożone?
6 października 2012, 09:12Eksperci zgromadzeni na Międzynarodowym sympozjum nt. litografii w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie uznali, że prawo Moore'a może być zagrożone przez opóźniające się prace nad narzędziami do EUV
Nowy fotorezyst dla technologii 20 nanometrów
17 listopada 2009, 12:53Toshiba poinformowała o opracowaniu fotorezystu, który współpracuje z litografią w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV) i jest pierwszym nadającym się do wykorzystania w 20-nanometrowym procesie produkcyjnym.
Jest przyszłość przed litografią w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie?
27 lutego 2014, 11:16W czasie dwóch osobnych wystąpień na konferencji SPIE Lithography, przedstawiciele Intela i TSMC ożywili oczekiwania na rozwój litografii w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV). Z technologią tą od dawna łączy się wielkie nadzieje
